UV光催化設(shè)備工藝原理

工藝原理：
通過采用紫外線，破壞有機廢氣分子的化學鍵，使之裂解形成游離狀態(tài)的原子或基團（C*、H*、O*等）；同時通過裂解混合空氣中的氧氣，使之形成游離的氧原子并結(jié)合生成臭氧：UV＋O2→O-+O*(活性氧)  O+O2→O3(臭氧)。具有強氧化性的臭氧（O3）與有機廢氣分子被裂解生成的原子發(fā)生氧化反應(yīng)，形成H2O和CO2。

凈化效果與廢氣分子的鍵能、廢氣濃度以及含氧量有關(guān)。整個凈化過程無需添加任何化學助劑或者特殊限制條件。從實際情況來看，UV燈波長的選擇以及廢氣在設(shè)備內(nèi)的合理停留時間是影響UV光氧化設(shè)備去除效率的主要影響因素。