涂布機廠有機廢氣處理系列設(shè)備主要用于工廠產(chǎn)生臭氣的脫臭凈化、消毒殺菌，經(jīng)本設(shè)備凈化后氣體達到《大氣污染物綜合排放標準》（GB16297-1996）和《惡臭污染物排放標準》（GGB14554-1993）。

　使用環(huán)境說明：

 溫度：攝氏-30℃－95℃    PH值：3-11 

　　
　涂布機廠有機廢氣處理產(chǎn)品技術(shù)簡介
　　
　　1、涂布機廠有機廢氣處理本產(chǎn)品利用特制的高能高臭氧UV紫外線光束照射惡臭氣體，裂解惡臭氣體如：氨、*胺、硫化氫、甲硫氫、甲硫醇、甲硫醚、二甲二硫、二硫化碳和苯乙烯，硫化物H2S、VOC類，苯、甲苯、二甲苯的分子鏈結(jié)構(gòu)，使有機或無機高分子惡臭化合物分子鏈，在高能紫外線光束照射下，降解轉(zhuǎn)變成低分子化合物，如CO2、H2O等。
　　
　　2、利用高能高臭氧UV紫外線光束分解空氣中的氧分子產(chǎn)生游離氧，即活性氧，因游離氧所攜正負電子不平衡所以需與氧分子結(jié)合，進而產(chǎn)生臭氧。UV＋O2→O-O＊(活性氧)OO2→O3(臭氧),*臭氧對有機物具有*的氧化作用，對惡臭氣體及其它刺激性異味有*的清除效果。
　　
　　3、惡臭氣體利用排風設(shè)備輸入到本凈化設(shè)備后，凈化設(shè)備運用高能UV紫外線光束及臭氧對惡臭氣體進行協(xié)同分解氧化反應(yīng)，使惡臭氣體物質(zhì)其降解轉(zhuǎn)化成低分子化合物、水和二氧化碳，再通過排風管道排出室外。
　　
　　4、利用高能UV光束裂解惡臭氣體中細菌的分子鍵，破壞細菌的核酸（DNA），再通過臭氧進行氧化反應(yīng)，*達到脫臭及殺滅細菌的目的．
　　
　　它具有適應(yīng)性強、運行成本低、設(shè)備占在面積小等特點，應(yīng)該應(yīng)用于煉油廠、橡膠廠、化工廠、制藥廠、污水處理廠、垃圾轉(zhuǎn)運站、餐廚垃圾處理廠、飼料廠、印染廠、噴涂廠等各種有污染源惡臭氣體的脫臭凈化。